光刻机是什么呢？
——一种制造芯片的关键装备，它可以将电路结构临时& 34;到涂有光刻胶的硅片上。
光刻机的原理是什么？
——就像冲洗照片，不同的是洗照片是把底片放大，而光刻是把底片缩小。
制造高端芯片难吗？
——很难，就像在一粒大米上雕刻清明上河图，而这粒大米还在时速100迈的汽车上，而雕刻装备在另外一辆时速10迈的汽车上。
原子弹和光刻机哪一个更难？
——世界上有多个国家可以独立制造原子弹，而顶级的EUV光刻机只有荷兰ASML能够制造，并且还是集成了全球多个国家的技术。
总的来讲：如果半导体是人类工业史上的一顶皇冠，那么光刻机就是这顶皇冠上的明珠。
对于这类夸大的描写，个人不做否认。但是其实不是所有的光刻机都是皇冠上的明珠。
光刻机根据应用范围分为：前道光刻机、后道光刻机、LED光刻机和面板光刻机。我们常说的7nm、5nm芯片都是用前道光刻机制造的。
前道光刻机市场主要有三家：ASML、尼康、佳能。工艺上，ASML>尼康>佳能。
ASML的EUV光刻机已经可以制造14nm以下工艺的芯片，而尼康和佳能的DUV光刻机只能制造28nm制程的芯片。
因此，目前主流手机芯片，如：高通骁龙、苹果A系列、联发科天玑等都使用了ASML的EUV光刻机。
台积电、三星、英特尔号称芯片制造三巨头，如果没有ASML的光刻机，它们也全部歇菜。
2021年，全球光刻机市场份额为1076亿，ASM一家就达到了854亿，占比79%。中端市场（DUV光刻机）出货103台，占据93.6%的市场份额，高端的EUV光刻机直接垄断。
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